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J-GLOBAL ID:201002224398862013   整理番号:10A1124868

NiO薄膜の透明性と伝導特性に対するLiドーピングの効果とヘテロエピタキシャル成長法で作製したp-n接合への応用

Effect of Li doping in NiO thin films on its transparent and conducting properties and its application in heteroepitaxial p-n junctions
著者 (4件):
資料名:
巻: 108  号:ページ: 083715  発行年: 2010年10月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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c-サファイア基板上にパルスレーザ蒸着法によって,[111]方位を持つLiドープのNiO(LixNi1-xO)薄膜をエピタキシャル成長させた。成長させた薄膜に関する,構造,電気的および光学的特性を,それぞれx線回折法,四探子法,およびUV-可視光域のスペクトル解析によって研究した。高分解能x線Φ走査法によって,[0001]サファイア基板上における[111]配向したLiドープのNiO薄膜のエピタキシャル成長を確認した。LiドープのNiO薄膜の電気的および光学的特性に対する堆積条件とLiのドーピング濃度の変化の効果を研究した。抵抗のデータの解析から,ドープされたLiイオンは薄膜内において置換型格子点を占有し,p型伝導を増強させることが判明した。また,Li0.07Ni0.93O薄膜における最小抵抗値は0.15Ωであることが分かった。更に,LiドープNiO薄膜における活性化エネルギーは0.11~0.14eVであることが分かった。これらの値に基づいて,考えられる電気的輸送の機構を議論した。最適化されたp型LiドープのNiOとn型ZnOとでp-nヘテロ接合を作製した。pおよびn層の間に真性のMgZnOを挿入すると,漏洩電流が減少するために電流-電圧特性が改善されることが分かった。ダイオード構造において,層の間には[111]NiO∥[0001]MgZnO∥[0001]ZnO∥[0001]GZO∥[0001]X(X=Al2O3)のヘテロエピタキシャル関係が成立することが分かった。p-i-nヘテロ接合は優れた整流性を示し,ターンオン電圧は2.8Vで,ブレークダウン電圧は8.0Vであることが分かった。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の格子欠陥  ,  半導体結晶の電気伝導  ,  13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 

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