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J-GLOBAL ID：201002227232203398   整理番号：10A1006603

光学デバイスのためのメタクリレートポリマーにおける光弾性複屈折の形成機構

Mechanism of Generation of Photoelastic Birefringence in Methacrylate Polymers for Optical Devices

著者 (5件)： SHAFIEE Houran (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  SHAFIEE Houran (JST-ERATO-SORST, Kawasaki, JPN) ,  TAGAYA Akihiro (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  TAGAYA Akihiro (JST-ERATO-SORST, Kawasaki, JPN) ,  KOIKE Yasuhiro (JST-ERATO-SORST, Kawasaki, JPN)
資料名： Journal of Polymer Science. Part B. Polymer Physics  (Journal of Polymer Science. Part B. Polymer Physics)
巻： 48  号： 19  ページ： 2029-2037  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： C0346B  ISSN： 0887-6266  CODEN： JPLPAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリメタクリレートポリマー:PMMA,PEMA,PiPMA,Pt-BMA,PiBMA,PCHMA,の複屈折を調べた。ポリマーの配向複屈折をもたらすコンホメーション変化はメタクリレートポリマーのTg以上で起こり,光弾性複屈折はTg以下での弾性変形における側鎖の配向に依存した。PMMA,PEMA,PiBMA,Pt-BMAでは負の固有複屈折を持ち,PMMA,PEMA,PiPMA,Pt-BMAは光弾性係数が負,PiBMAとPCHMAは正の光弾性係数を有し,光弾性係数の変化はおうむね置換基のサイズに従い増加した。

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸エステル ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *複屈折 ,  ガラス転移点 ,  *光弾性 ,  プラスチックフィルム ,  応力歪曲線 ,  分子配向 ,  赤外吸収スペクトル ,  温度依存性 ,  置換基効果
準シソーラス用語： ポリメタクリル酸t-ブチル ,  ポリメタクリル酸イソブチル ,  ポリメタクリル酸エチル ,  ポリメタクリレート

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光学デバイス ,  光弾性 ,  複屈折