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J-GLOBAL ID：201002227738790631   整理番号：10A0731841

マスクを製造するための設計を意図した抽出フローの開発

Development of a Design Intent Extraction Flow for Mask Manufacturing

著者 (5件)： KATO Kokoro (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET)) ,  ENDO Masakazu (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET)) ,  INOUE Tadao (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET)) ,  YAMABE Masaki (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET)) ,  NAKATAKE Shigetoshi (Kitakyushu Univ.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7641  ページ： 76410K.1-76410K.8  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 益々マスクの製造コストが上昇しているので,その対策として,マスクの設計を意図した抽出フローを開発し,そのソフトウェアのメカニズムを説明した。3つの半導体製造メーカの実際のチップのデータを使用して,LSIの設計意図を利用することにより,実験を行った結果,マスクの検査のための時間を減らすことができることが分かった。新しい設計意図の抽出フローは,実存の標準EDAのツールで構成され,特別な準備は全然必要としない。そしてこの方法をアナログ回路にも適用する可能性を検討した。

シソーラス用語： *半導体集積回路 ,  *フォトマスク ,  LSI【IC】 ,  回路設計 ,  機構
準シソーラス用語： メカニズム ,  製造容易化設計 ,  設計意図 ,  電子回路設計

分類 (1件)： 半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (5件)： マスク ,  設計 ,  意図 ,  フロー ,  開発