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J-GLOBAL ID：201002228056538015   整理番号：10A1455373

In situ XAFS法を用いた金ナノ粒子触媒調製時のガス雰囲気の違いによる還元挙動の検討

著者 (15件)： 大橋弘範 (九大 高推セ) ,  大橋弘範 (首都大学東京 大学院) ,  大橋弘範 (JST-CREST) ,  河北典子 (首都大学東京 大学院) ,  河北典子 (JST-CREST) ,  島田悟 (首都大学東京 大学院) ,  島田悟 (JST-CREST) ,  陰地宏 (JASRI/SPring-8) ,  本間徹生 (JASRI/SPring-8) ,  石田玉青 (首都大学東京 大学院) ,  石田玉青 (JST-CREST) ,  武井孝 (首都大学東京 大学院) ,  武井孝 (JST-CREST) ,  春田正毅 (首都大学東京 大学院) ,  春田正毅 (JST-CREST)
資料名： X線分析討論会講演要旨集  (X線分析討論会講演予稿集)
巻： 46th  ページ： 53-54  発行年： 2010年10月22日 
JST資料番号： S0881A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *XAFS ,  *金 ,  *ナノ粒子 ,  *金属触媒 ,  *触媒調製 ,  雰囲気 ,  *接触還元 ,  *担持触媒 ,  *γアルミナ ,  四重極質量分析計 ,  水素

分類 (3件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  その他の構造決定法  (BK01070L) ,  その他の物理分析  (CC03014E)

タイトルに関連する用語 (6件)： XAFS ,  金ナノ粒子 ,  触媒調製 ,  ガス雰囲気 ,  還元 ,  挙動