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J-GLOBAL ID：201002228371263997   整理番号：10A1144031

パルス磁場印加における超伝導バルクの温度および磁場分布のシミュレーション

Simulation of temperature and magnetic field distribution in superconducting bulk during pulsed field magnetization

著者 (2件)： FUJISHIRO Hiroyuki (Iwate Univ., Morioka, JPN) ,  NAITO Tomoyuki (Iwate Univ., Morioka, JPN)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 23  号： 10  ページ： 105021,1-8  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 冷凍機冷却を行った超伝導バルク体にパルス磁場を印加した後の電磁気場および熱場の理論的シミュレーションを行った。臨界電流密度が異なるバルクについてシミュレーションを行い,バルク表面の捕捉磁場および温度の時間および印加磁場依存性の実験結果を定性的に再現することができた。パルス磁場の立ち上がり時間がτ=0.01sの場合,バルクの熱伝導度が低いために磁束の伝搬はバルク中心の熱伝搬よりも約2桁ほど速かった。それは温度上昇の遅れにより侵入磁束が漏れてしまうことを示す。τ=1および10sという長いパルス磁場印加では,磁束伝搬速度は遅くなり,熱伝搬速度に近づいた。この場合には,磁束クリープによる磁束漏洩は小さくなり,より高い捕捉磁場を得ることができた。パルス磁場印加を用いた捕捉磁場の増大方法について検討した。

シソーラス用語： *高温超伝導 ,  *超伝導体 ,  *温度分布 ,  温度場 ,  *シミュレーション ,  *磁場 ,  冷凍機 ,  冷却 ,  臨界電流密度 ,  表面 ,  時間依存性 ,  熱伝導率 ,  磁束 ,  磁束運動 ,  磁束クリープ ,  漏れ磁束
準シソーラス用語： *パルス磁場 ,  磁場依存性 ,  *磁場分布 ,  伝搬速度 ,  捕捉磁場 ,  立上り時間 ,  漏洩磁束

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス磁場 ,  印加 ,  伝導 ,  バルク ,  磁場分布 ,  シミュレーション