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J-GLOBAL ID：201002230503855311   整理番号：10A0362234

高温リン酸塩/グリセロール電解質中での多孔質アノード酸化チタン膜の形成

Formation of porous anodic titanium oxide films in hot phosphate/glycerol electrolyte

著者 (5件)： HABAZAKI H. (Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., N13-W8, Sapporo 060-8628, JPN) ,  TERAOKA M. (Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., N13-W8, Sapporo 060-8628, JPN) ,  AOKI Y. (Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., N13-W8, Sapporo 060-8628, JPN) ,  SKELDON P. (Corrosion and Protection Centre, School of Materials, The Univ. of Manchester, P.O. Box 88, Manchester M60 1QD, GBR) ,  THOMPSON G.e. (Corrosion and Protection Centre, School of Materials, The Univ. of Manchester, P.O. Box 88, Manchester M60 1QD, GBR)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 55  号： 12  ページ： 3939-3943  発行年： 2010年04月30日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究によって,高温リン酸塩/グリセロール電解質中で,水含有量の低減によって,チタン上への多孔質アノード膜の増大した成長速度での形成が明らかになった。0.04%の僅かな水を含有する,0.6mol/dm³ K₂HPO₄+0.2mol/dm³ K₃PO₄/グリセロール電解質中で,433K,5Vでの3.6ksにわたるアノード酸化の後で,12μmの厚さのリン化学種が比較的低い含有量の多孔質酸化チタン膜が成長した。その成長効率は形成電圧を20Vに上昇させると,アノード酸化の際にガス発生を誘起した結晶性酸化物の生成によって低下した。20Vで形成した膜は,二つの層から構成され,内部層ではリン化学種の濃度の増大を伴った。膜厚の約25%を占める外部層は250A/m²の定電流密度での初期アノード酸化によって,10Vより低い形成電圧で成長した。細孔径は形成電圧に有意には依存せずに,~10nmであった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *酸化膜 ,  多孔質電極 ,  アノード ,  *リン酸塩 ,  *脂肪族アルコール ,  電解質 ,  含水量 ,  成長速度 ,  薄膜成長 ,  化学種 ,  電圧 ,  効率 ,  アノード酸化 ,  膜厚 ,  定電流電源 ,  電流密度 ,  細孔径 ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  高温 ,  リン酸カリウム ,  ポリオール
準シソーラス用語： リン酸水素二カリウム ,  二層構造

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (1件)： グリセロール

タイトルに関連する用語 (6件)： リン酸塩 ,  グリセロール ,  電解質 ,  多孔質 ,  アノード酸化 ,  チタン膜