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J-GLOBAL ID：201002233823440313   整理番号：10A0624731

Coベースの軟X線多層グレーティングの光学および構造特性の評価

Evaluations of optical and structural properties of Co based soft x-ray multilayer gratings

著者 (6件)： ISHINO M. (Japan Atomic Energy Agency, Kyoto, JPN) ,  KOIKE M. (Japan Atomic Energy Agency, Kyoto, JPN) ,  SATOU F. (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  TERAUCHI M. (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  SANO K. (Shimadzu Emit, Ltd., Osaka, JPN) ,  SASAI H. (Shimadzu Corp., Kyoto, JPN)
資料名： Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University  (Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University)
号： 12  ページ： 75-85  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： L4610A  ISSN： 1345-1650  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 層状タイプのホログラフィー用グレーティングの表面にCo/Si及びCo/SiO₂多層膜を堆積させて,多層膜グレーティングを作製した。作製した多層膜グレーティングの回折効率をシンクロトロン放射施設を用いて測定し,Co/Si多層膜グレーティングの構造を透過電子顕微鏡を用いて観察した。入射及び回折角の測定値と計算値を比較することによって評価した光学的特性から,多層膜グレーティングの回折角度が多層膜コーティングの屈折率によって影響を受けていることがわかった。1-2keVの光子エネルギー領域で測定したCo/Si多層膜グレーティングの回折効率が低いという事実は,Co/Si多層膜コーティング中の大きな厚みを持つ内部拡散層に起因することがわかった。このことから,多層膜中のCoとSiを組み合わせは,X線光学的コーティング用の多層膜には適していないことが示唆された。

シソーラス用語： *軟X線 ,  *ホログラフィー ,  *回折格子 ,  *多層膜 ,  コバルト ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  *回折効率 ,  シンクロトロン放射 ,  電子顕微鏡観察 ,  屈折率

分類 (1件)： その他のホログラフィー  (BD03073D)

タイトルに関連する用語 (7件)： CO ,  軟X線 ,  多層 ,  グレーティング ,  光学 ,  構造特性 ,  評価