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J-GLOBAL ID：201002234974083390   整理番号：10A1072959

HfN中間層によるTa上のPd被覆の高温安定性の改善

Improvement of high temperature stability of Pd coating on Ta by HfN intermediate layer

著者 (5件)： NOZAKI Teo (Hydrogen Isotope Res. Center, Univ. of Toyama, Toyama 930-8555, JPN) ,  HATANO Yuji (Hydrogen Isotope Res. Center, Univ. of Toyama, Toyama 930-8555, JPN) ,  YAMAKAWA Eriko (Fac. of Human Dev., Univ. of Toyama, Toyama 930-8555, JPN) ,  HACHIKAWA Asuka (Fac. of Human Dev., Univ. of Toyama, Toyama 930-8555, JPN) ,  ICHINOSE Kazuyoshi (Fac. of Human Dev., Univ. of Toyama, Toyama 930-8555, JPN)
資料名： International Journal of Hydrogen Energy  (International Journal of Hydrogen Energy)
巻： 35  号： 22  ページ： 12454-12460  発行年： 2010年11月 
JST資料番号： B0192B  ISSN： 0360-3199  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素製造用のPd-Ta複合膜の高温安定性を改善するための非多孔質の中間層用材料としてHfNを選んだ。Ta基板とPd膜の間に厚いHfN層を作り,873および973Kでの熱処理後に,573Kで水素吸収実験を行ってPd被覆の高温安定性を調べた。このHfN層は,PdとTaよりは率が低いが明らかに水素浸透性がある。さらに,高温でのPdの被覆効果の劣化はHfN層によって減少した。このような改善した安定性は,Pd膜の開放した多孔質の発達低下とPdとTaの間の相互拡散による。結論として,HfNはPd群金属複合材系水素分離膜の高温安定性を改善する中間層材料の候補になる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ハフニウム化合物 ,  *窒化物 ,  *パラジウムめっき ,  *安定性 ,  タリウム ,  分離
準シソーラス用語： *窒化ハフニウム ,  *温度安定性 ,  水素分離

分類 (1件)： 気体燃料の製造  (YE02030F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 中間層 ,  Ta ,  Pd ,  安定性