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J-GLOBAL ID：201002235327040219   整理番号：10A1157885

低膨張炭化ケイ素/タングステン酸ジルコニウム多孔質セラミックスの開発

Development of Low-Thermal-Expansion Silicon Carbide/Zirconium Tungstate Porous Ceramics

著者 (3件)： POOWANCUM Anurat (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  MATSUMARU Koji (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  ISHIZAKI Kozo (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 93  号： 10  ページ： 2978-2980  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラスを結合材としたSiC-ZrW₂O₈系低熱膨張多孔質セラミックスを作製し,微細構造と熱膨張特性を調べた。熱膨張係数がSiCは正,ZrW₂O₈は負である。ZrO₂とWO₃から固相反応でZrW₂O₈を合成し,<20μm,20~45μm及び45~90μmに分級した。SiC,ガラス及びZrW₂O₈を体積比0.5/0.2/0.3で混合し,通常焼結(850°C×1h)または放電プラズマ焼結(850°C×3分,10MPa)した。通常焼結ではZrW₂O₈が焼結過程でZrO₂とWO₃に分解して熱膨張係数が大きくなった。大きな粒径のZrW₂O₈を用いて放電プラズマ焼結したものは小さな熱膨張係数を示した。

シソーラス用語： *セラミック ,  多孔質体 ,  *炭化ケイ素 ,  *ジルコニウム化合物 ,  *タングステン酸塩 ,  熱膨張係数 ,  放電焼結 ,  プラズマ加工 ,  粒度依存性 ,  微細構造 ,  酸化ジルコニウム ,  酸化タングステン ,  固相反応 ,  放電プラズマ焼結
準シソーラス用語： *タングステン酸ジルコニウム ,  *多孔質セラミック

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 膨張 ,  炭化ケイ素 ,  タングステン酸ジルコニウム ,  多孔質セラミックス ,  開発