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J-GLOBAL ID：201002235572774945   整理番号：10A0163686

新機能を創造するナノインプリント技術 光ナノインプリント技術

著者 (1件)： 廣島洋 (産業技術総合研)
資料名： 精密工学会誌(CD-ROM)  (精密工学会誌論文集)
巻： 76  号： 2  ページ： 148-151  発行年： 2010年02月05日 
JST資料番号： F0268B  ISSN： 1348-8716  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光ナノインプリントによるパターン形成は非常に簡便なパターン形成プロセスであり,モールド,光硬化性樹脂および適当な光源があればパターン形成ができる。本報では光ナノインプリント技術について解説した。主な内容項目を次に示した。1)概要:ナノインプリント技術開発経緯(熱ナノインプリント,光ナノインプリント),2)光ナノインプリントの特徴:主な特徴(高い転写精度,モールドと材料の高精度配置,加工プロセスの短時間化,高いステップアンドリピートプロセスとの親和性,透明モールドによる高精度の位置合わせ,混在パターンや大パターンへの高い適用性など),3)光ナノインプリントによる微細パターン形成:シリコンの超平坦基板を利用した光ナノインプリントでの転写特性,LSI作製でのリソグラフィーパターン形成でのラインエッジラフネス(LER),転写パターンの再現性など,4)光ナノインプリント装置:熱ナノインプリント装置と比較した光ナノインプリント装置の構成と特徴的な機構,5)光ナノインプリント用モールド:光硬化性樹脂に光を照射する必要からモールドや基材に必要な透明性(一般的に利用される石英),電子線描画とドライエッチングなど,6)モールドの表面処理:モールド表面の離型剤処理およびシランカップリング剤などの離型剤とその特徴,7)光ナノインプリント用樹脂:光硬化性樹脂(エポキシ系,ウレタン系などのベース樹脂に光重合開始剤,ラジカル発生剤などを混合した樹脂溶液)とその特性,8)光ナノインプリントプロセス:プロセスの構成と特徴。

シソーラス用語： *パターン転写 ,  パターン形成 ,  リソグラフィー ,  紫外線照射 ,  気泡欠陥 ,  シランカップリング剤 ,  離型剤 ,  *光重合型樹脂 ,  表面処理 ,  微細加工 ,  ドライエッチング ,  高分子加工機
準シソーラス用語： *光ナノインプリント ,  *光ナノインプリントリソグラフィー ,  犠牲層 ,  *技術動向 ,  *プラスチック成形用モールド

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 創造 ,  ナノインプリント ,  光ナノインプリント