文献

J-GLOBAL ID：201002236169522673   整理番号：10A0176376

ペルヒドロポリシラザンを用いたゾル-ゲル法によるPBT基板へのシリカ膜の作製と特性評価

Preparation and Characterization of Silica Film on PBT Substrate by Sol-Gel Method Using Perhydropolysilazane

著者 (4件)： HORIKAWA Hajime (Univ. Fukui, Fukui, JPN) ,  OGIHARA Takashi (Univ. Fukui, Fukui, JPN) ,  SHIMOMURA Akio (Shimomura Shikkiten, Co., Ltd, Fukui, JPN) ,  SHIMOMURA Junko (Shimomura Shikkiten, Co., Ltd, Fukui, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 421/422  ページ： 161-164  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パーヒドロポリシラザン(PHPS)からシリカへの変化への熱処理による影響をSEM,FTIRで調べた。PHPSをSi源としてディップコーティングによりポリブチレンテレフタレート(PBT)基板にシリカ薄膜を作製し,170°Cで熱処理した。また,シリカ/PMMAハイブリッドとシリカ粒子混合シリカ膜を作製して機械的性質を調べた。シリカ単味では幅1.5μmの亀裂を生じたが,シリカ/PMMAハイブリッドでは幅0.2μmの亀裂となり,シリカ粒子混合シリカ膜は平滑ではないが亀裂は認められなかった。鉛筆引掻き硬さはシリカ膜がH,シリカ/PMMAハイブリッド膜がB,シリカ粒子混合シリカ膜が3Hであった。

シソーラス用語： *ポリシラザン ,  *ポリブチレンテレフタレート ,  *薄膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  硬度 ,  亀裂発生 ,  耐性 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *ゾル-ゲル膜 ,  鉛筆硬さ ,  耐引かき性 ,  *ペルヒドロポリシラザン

分類 (2件)： 表面処理  (YH04112X) ,  機械的性質  (YH02022L)

タイトルに関連する用語 (6件)： ペルヒドロポリシラザン ,  ゾル-ゲル法 ,  PBT ,  シリカ膜 ,  作製 ,  特性評価