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J-GLOBAL ID：201002237001756152   整理番号：10A0278985

ジルコニウムアノード酸化皮膜の誘電特性に及ぼすAl添加の影響

著者 (5件)： 小山瞬 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研) ,  木村久道 (東北大 金属材料研) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 121st  ページ： 240-241  発行年： 2010年02月26日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電解コンデンサ ,  材料 ,  *アノード酸化 ,  酸化膜 ,  誘電性 ,  誘電率 ,  結晶構造 ,  静電容量 ,  *ジルコニウム合金 ,  アルミニウム添加合金 ,  微細構造 ,  薄膜コンデンサ ,  マグネトロンスパッタリング ,  電気測定 ,  膜厚 ,  容量電圧特性 ,  依存性 ,  代替材料 ,  インピーダンス測定 ,  組成依存性 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： 比誘電率 ,  微細組織

分類 (2件)： 化成処理  (WC08050J) ,  LCR部品  (NA05030D)

タイトルに関連する用語 (4件)： ジルコニウム ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電特性 ,  Al