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J-GLOBAL ID：201002238603462695   整理番号：10A0861059

Chemical vapour deposition and atomic layer deposition of amorphous and nanocrystalline metallic coatings: Towards deposition of multimetallic films

著者 (4件)： BLANQUET Elisabeth (SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA) ,  MANTOUX Arnaud (SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA) ,  PONS Michel (SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA) ,  VAHLAS Constantin (CIRIMAT, ENSIACET, 4, allee Emile Monso, BP-44362, 31432 Toulouse Cedex 4, FRA)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 504  号： Supplement 1  ページ： S422-S424  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)