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J-GLOBAL ID：201002239132176065   整理番号：10A0826785

ダブルパターニングリソグラフィーにおける二峰性CD分布のためのタイミング歩留りを考慮した色配置転換と詳細配置摂動

Timing Yield-Aware Color Reassignment and Detailed Placement Perturbation for Bimodal CD Distribution in Double Patterning Lithography

著者 (3件)： GUPTA Mohit (Univ. California at San Diego, CA, USA) ,  JEONG Kwangok (Univ. California at San Diego, CA, USA) ,  KAHNG Andrew B. (Univ. California at San Diego, CA, USA)
資料名： IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems  (IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems)
巻： 29  号： 8  ページ： 1229-1242  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： B0142C  ISSN： 0278-0070  CODEN： ITCSDI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ダブルパターニングリソグラフィー(DPL)は,32nm以下の技術には不可欠の技術である。タイミング分析誤差ガードバンドについての,DPLにおける二峰性臨界寸法(CD)分布の潜在的影響を,従来の単峰性特性解析と分析と比較して調べた。ダブルパターニングにおけるタイミング変動を軽減するために,タイミングパスの遅れ変動を定量化する,新しい計量法を提案し,最適セルベースのタイミングを考慮した色配置法を実現し,DPLパターン設計のタイミング遅れと変動の両方を効果的に改善した。また,動的プログラミングベースの詳細配置アルゴリズムを提案し,カラーリングコンフリクトを最小化した。DPLパターン設計における,最悪タイミング違反の最大271nsの低減と70%の最悪タイミング違反変動低減を達成した。

シソーラス用語： 回路パターン形成 ,  長さ ,  *歩留り ,  誤差 ,  変動 ,  *動的計画法 ,  最小化問題 ,  配置
準シソーラス用語： *タイミング誤差 ,  *ダブルパターニング ,  ダブルパターニング技術 ,  動的プログラミング ,  臨界寸法 ,  *二峰性臨界寸法

分類 (2件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (6件)： Cd ,  分布 ,  歩留り ,  色 ,  配置転換 ,  摂動