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J-GLOBAL ID：201002241030877136   整理番号：10A1086249

マスク検査装置における計測能力の評価

Evaluation of metrology capabilities of mask inspection equipment

著者 (3件)： TOUYA T. (NuFlare Technol., Inc. (Japan), Kanagawa, JPN) ,  TAMAMUSHI S. (NuFlare Technol., Inc. (Japan), Kanagawa, JPN) ,  TAKAMATSU N. (NuFlare Technol., Inc. (Japan), Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7748  ページ： 77480O.1-77480O.11  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マスク画像配置(IP)精度とCD均一性に対する要求は,ダブルパターニング技術(DPT)の展開によってますます増加している。CD精度の改善は以下の方法によって容易になった。一つはCD情報をマスク描画装置にフィードバックすることによって,二つは,マスクのCD情報を予めリソグラフィースキャナに覚えこませることによってである。さらに,マスクIP情報をマスク描画装置にフィードバックすることによって,位置精度の改善が可能になった。CDとIPを測定し,通常の計測ツールを用いてパターンを計測するためには,特殊なパターンが必要である。そして,最近の先端マスクには計測点が多数存在するので,計測が長時間となる。マスクのCDとIP情報を同時に取得する機能を開発し,画像データをマスク欠陥検査装置によって解析した。その結果,特殊なパターンが必要でなく,計測時間が短縮された。この機能を用いて生産用に近いパターンのIPデータを取得した結果を報告する。この機能によって,位置誤差をかなり正確に決定できることを証明した。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *欠陥検査 ,  計測 ,  フォトリソグラフィー ,  *形状精度 ,  寸法精度 ,  画像診断 ,  半導体プロセス ,  パターン形成 ,  回路パターン形成 ,  位置制御
準シソーラス用語： 光学的マッピング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： マスク ,  検査装置 ,  計測 ,  能力 ,  評価