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J-GLOBAL ID：201002241046717627   整理番号：10A0127866

ナノ多層Zr-O/Al-O薄膜の陰極アークプラズマ蒸着

Cathodic arc plasma deposition of nano-multilayered Zr-O/Al-O thin films

著者 (5件)： KIM Sun Kyu (School of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Ulsan, Ulsan 680-749, KOR) ,  VAN LE Vinh (School of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Ulsan, Ulsan 680-749, KOR) ,  BOXMAN R.l. (School of Electrical Engineering, Tel Aviv Univ., Tel Aviv 69978, ISR) ,  ZHITOMIRSKY V.n. (School of Electrical Engineering, Tel Aviv Univ., Tel Aviv 69978, ISR) ,  LEE Jeong Yong (Dep. of Materials Sci. and Engineering, KAIST, Daejon, 305-701, KOR)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 11  ページ： 1697-1701  発行年： 2010年02月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 陰極アークプラズマ析出システムで,ZrとAl陰極を使用して,Zr-O/Al-Oの薄膜をSKD11工具鋼基板に析出した。基材を回転ホルダーに取り付け,2つの陰極からのプラズマに交互に曝露した。ZrとAlの陰極アーク電流と基板バイアスが,膜の機械的性質と構造的な性質に及ぼす影響を調査した。AlリッチとZrリッチのナノ層状構造が交互にある膜が得られた。Zr層は(101)配向のt-ZrO構造のナノ結晶子を含んでいた。α-Al₂O₃構造の結晶子は,基材に100~150Vの範囲で負にバイアスした時にのみ観察された。膜の硬度は,Zr陰極電流を60から80Aまでの増加すると減少し,Al陰極電流を25~30Aに増加したときには増加した。Al陰極電流を30から35Aに増加したときには,硬度は減少した。膜の硬度は,-150Vまではバイアス電圧を増加するに従って増加し,負のバイアスを更に増加すると減少した。膜の構造をHRTEM顕微鏡で解明した。残留応力と膜の硬度向上との間には良い相関関係が観測された。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオンめっき ,  *プラズマCVD ,  *蒸着膜 ,  *酸化ジルコニウム ,  *アルミナ ,  工具鋼 ,  高合金鋼 ,  高炭素合金鋼 ,  *セラミック被覆 ,  ジルコニウム ,  アルミニウム ,  カソード ,  *多層膜 ,  薄膜 ,  相組成 ,  αアルミナ ,  微小硬さ ,  電圧 ,  バイアス ,  電圧依存性 ,  ナノシート
準シソーラス用語： SKD11 ,  ナノ膜 ,  バイアス電圧 ,  陰極アークプラズマ蒸着 ,  *陰極アーク蒸着

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 多層 ,  Zr ,  Al ,  薄膜 ,  陰極 ,  アーク ,  プラズマ蒸着