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J-GLOBAL ID：201002241710812870   整理番号：10A1605816

Nanoimprint lithography表面修飾を施した複合材料の界面特性評価

著者 (4件)： 鈴木拓也 (東京工大 大学院) ,  松崎亮介 (東京工大) ,  轟章 (東京工大) ,  水谷義弘 (東京工大)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集  (日本機械学会年次大会)
巻： 2010  号： Vol.8  ページ： 3-4  発行年： 2010年09月04日 
JST資料番号： X0587B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究ではNanoimprint lithography(NIL)を導入した成形方法により,複合材料の接着面に表面修飾を行う。NILとは微細構造を有する金型を樹脂材料へプレス転写する技術であり,半導体成形分野で用いられている。本研究ではこの技術を導入し複合材料の成形治具に微細構造を作製することで,成形時に接着面の表面修飾を行った。転写された微細構造は有限要素法により界面特性を向上させるよう最適化されているため,従来必要であった表面処理工程を削減することができ加工時間やコストの削減につながる。本研究発表では界面破壊靭性について評価,議論を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *複合材料 ,  接着 ,  表面処理 ,  *界面 ,  破壊靱性 ,  有限要素法 ,  亀裂伝搬
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  *界面特性 ,  接着界面

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面修飾 ,  複合材料 ,  界面特性 ,  評価