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J-GLOBAL ID：201002242860816373   整理番号：10A0339972

ナノパターンの厚さを測定するためにAFMによるナノ作製法を利用する ω-官能化n-アルカンチオールの垂直自己集合における頭基の役割

Applying AFM-Based Nanofabrication for Measuring the Thickness of Nanopatterns: The Role of Head Groups in the Vertical Self-Assembly of ω-Functionalized n-Alkanethiols

著者 (7件)： KELLEY Algernon T. (Louisiana State Univ., Louisiana) ,  NGUNJIRI Johnpeter N. (Louisiana State Univ., Louisiana) ,  SEREM Wilson K. (Louisiana State Univ., Louisiana) ,  LAWRENCE Steve O. (Louisiana State Univ., Louisiana) ,  YU Jing-Jiang (Agilent Technol., Inc., Arizona) ,  CROWE William E. (Louisiana State Univ., Louisiana) ,  GARNO Jayne C. (Louisiana State Univ., Louisiana)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 5  ページ： 3040-3049  発行年： 2010年03月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡法(AFM)チップを用いるペンリソグラフィー法によって金基板上のヘキサンチオール,オクタデカンチオール,ヘキサデカンチオール,11-メルカプトウンデカン酸,16-メルカプトヘキサデカン酸,11-メルカプトウンデカノール,1,9-ノナンジチオールおよびドデカンチオールの自己集合挙動を検討した。アルカンチオールの自己集合単分子層中にAFMチップでω-官能化n-アルキルチオールのパターンを形成し,濃度およびω-官能基の効果を調べた。ω-ヒドロキシル,カルボキシル,チオール基を有するアルキルチオールの場合,溶液濃度が高くなると二分子層が形成されることを明らかにした。

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *チオール ,  *自己組織系 ,  *単分子層 ,  原子間力顕微鏡 ,  濃度依存性 ,  置換基効果
準シソーラス用語： *ナノパターン形成 ,  *自己集合単分子層

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  脂肪族チオール  (CF03120R)

物質索引 (8件)： 1-ヘキサンチオール ,  1-オクタデカンチオール ,  1-ヘキサデカンチオール ,  11-メルカプトウンデカン酸 ,  16-メルカプトヘキサデカン酸 ,  1,9-ノナンジチオール ,  1-ドデカンチオール ,  11-メルカプト-1-ウンデカノール

タイトルに関連する用語 (10件)： ナノパターン ,  AFM ,  作製法 ,  官能化 ,  n-アルカン ,  チオール ,  垂直 ,  自己集合 ,  頭 ,  役割