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J-GLOBAL ID：201002243047683036   整理番号：10A1461741

半導体製造プロセスのフォトリソグラフィー段階を最適化,モデリングする事例研究

A Case Study on Modeling and Optimizing Photolithography Stage of Semiconductor Fabrication Process

著者 (3件)： KIM Hyun-Jin (Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR) ,  KIM Kwang-Jae (Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR) ,  KWAK Doh-Soon (Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
資料名： Quality and Reliability Engineering International  (Quality and Reliability Engineering International)
巻： 26  号： 7  ページ： 765-774  発行年： 2010年11月 
JST資料番号： C0764C  ISSN： 0748-8017  CODEN： QREIE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  *フォトリソグラフィー ,  *最適化 ,  事例研究 ,  *モデリング ,  ウエハ【IC】 ,  次元縮小

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 半導体製造プロセス ,  フォトリソグラフィー ,  段階 ,  最適化 ,  モデリング ,  研究