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J-GLOBAL ID：201002243722997657   整理番号：10A0464300

SIS接合用単結晶Nb薄膜の作製と評価

著者 (8件)： 紺野槙子 (山形大 工) ,  遠藤之正 (山形大 工) ,  宇野正紘 (山形大 工) ,  小林巨卓 (山形大 工) ,  小野哲 (山形大 工) ,  川上彰 (情報通信研究機構) ,  齊藤敦 (山形大 工) ,  大嶋重利 (山形大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19P-V-8  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *SIS構造 ,  *超伝導接合 ,  *ニオブ ,  超伝導薄膜 ,  単結晶 ,  基板 ,  二酸化ケイ素 ,  酸化マグネシウム ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  X線回折 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察

分類 (1件)： Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (6件)： SIS接合 ,  単結晶 ,  Nb ,  薄膜 ,  作製 ,  評価