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J-GLOBAL ID:201002243951236783   整理番号:10A1611664

アノード構造を改良した高速・高破壊耐量SOI横型ダイオードの開発

Development of high speed and highly rugged SOI lateral diode with improved anode structure
著者 (7件):
資料名:
巻: EDD-10  号: 83-89.91-98  ページ: 65-70  発行年: 2010年11月29日 
JST資料番号: Z0910A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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600V 2Aの定格を持つ高速・高破壊耐量SOI横型ダイオードの低注入の効率化とリカバリ時のダイナミックアバランシェの抑制を目指して,アノード構造を検討した。前者に関しては,pショットキー/p+オーミック構造が有効であることを実験およびシミュレーションの結果により明らかにした。また,大きなdi/dtでリカバリ動作させたときに発生するダイナミックアバランシェとこれによる素子の破壊は,アノードpウェルよりも接合深さが深いdeep Pをトレンチ溝側に付加することにより,リカバリ時の電界が緩和され,アバランシェを効果的に抑制できることが分かった。
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分類 (1件):
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ダイオード 
引用文献 (7件):
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