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J-GLOBAL ID：201002245734707592   整理番号：10A0623559

テラヘルツ領域における人工光合成を目指したチタニア/高分子系誘電体マイクロパターンの作製

著者 (2件)： 小森直紀 (大阪大 大学院) ,  桐原聡秀 (大阪大 接合科研)
資料名： 粉体粉末冶金協会講演概要集  (粉体粉末冶金協会大会講演概要集)
巻： 2010  号： 春季  ページ： 74  発行年： 2010年05月25日 
JST資料番号： F0815B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電磁波 ,  光合成 ,  酸化チタン ,  半導体素子 ,  被覆材 ,  アクリル樹脂 ,  光重合型樹脂 ,  積層成形 ,  共振周波数 ,  *テラヘルツ波
準シソーラス用語： チタニア ,  マイクロパターン ,  デバイス ,  光反射シート ,  アクリル系樹脂 ,  光硬化性樹脂 ,  光造形法 ,  共鳴周波数

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (7件)： テラヘルツ ,  人工光合成 ,  チタニア ,  分子系 ,  誘電体 ,  マイクロパターン ,  作製