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J-GLOBAL ID：201002246480317698   整理番号：10A1043533

マイクロホローカソード放電による吸収分光用光源を用いたプラズマプロセス中の金属原子密度のモニタリング

Monitoring of Metallic-atom-density in Plasma Processes by Light Source for Absorption Spectroscopy using Micro Hollow Cathode Discharge

著者 (2件)： 太田貴之 (和歌山大学システム工学部) ,  伊藤昌文 (名城大学理工学部)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 130  号： 10  ページ： 972-976 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マイクロホローカソードプラズマを用いた複数の金属原子密度を同時に測定できる吸収分光用光源の開発について記述し,本光源の応用例の一つとして,透明導電膜スパッタプロセス中の2元素同時密度測定について紹介した。最初に,吸収分光の光源用に開発したマルチマイクロホローカソードランプについて概説した。次に,透明導電酸化膜(TCO膜)として用いる酸化インジウムスズ膜(ITO膜)のスパッタプロセス中におけるZn原子とIn原子の絶対密度同時測定による金属原子モニタリングの例について紹介した。

シソーラス用語： ホロー陰極 ,  *ホロー陰極放電 ,  プラズマ ,  *放電ランプ ,  スペクトロスコピー ,  *プラズマ処理 ,  密度 ,  スパッタリング ,  同時計測
準シソーラス用語： マイクロプラズマ ,  吸収分光法 ,  原子密度

分類 (2件)： 光源  (BD07020D) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (22件)：

• 堀勝. 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用. 応用物理. 1999, 68, 1252
• 堀勝. スマートプロセス. 応用物理. 2005, 74, 1328
• EL-HABACHI, A. Emission of eximer radiation from direct current, high-pressure hollow cathode discharges. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 22
• SCHOENBACH, K. H. High-pressure hollow cathode lamp. Plasma Source Sci. Tech. 1997, 6, 468
• KURUNCZI, P. Hydrogen Lyman-α and Lyman-β emissions from high-pressure microhollow cathode discharges in Ne-H_2 mixtures. J. Phys. B : At. Mol. Opt. Phys. 1999, 32, L651

タイトルに関連する用語 (5件)： マイクロホローカソード放電 ,  分光用光源 ,  プラズマプロセス ,  原子密度 ,  モニタリング