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J-GLOBAL ID：201002246839582821   整理番号：10A1197780

イリノイ大学アーバナ・シャンペーン校でのフォトニック結晶作製技術の開発

著者 (1件)： 三宅正男 (京大 大学院)
資料名： 水曜会誌  (Transactions of the Mining and Metallurgical Association)
巻： 24  号： 3  ページ： 382-386  発行年： 2010年10月30日 
JST資料番号： F0313A  ISSN： 0371-408X  CODEN： SUIYAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 著者が留学したイリノイ大学アーバナ・シャンペーン校の研究環境を述べると共に,研究課題とした干渉リソグラフィーと電析技術を用いた3次元フォトニック結晶作製技術の開発について紹介した。干渉リソグラフィーによりポリマー製の周期構造体を作製し,空隙をCu₂Oの電析により充填した。反応性イオンエッチングによりポリマー・テンプレートを除去することにより,規則性の高い高品質なフォトニック結晶が得られた。

シソーラス用語： *生産技術 ,  *酸化銅 ,  イリノイ州 ,  大学 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： テンプレート【型】 ,  ポリマ ,  干渉リソグラフィー ,  電析 ,  反応性イオンエッチング

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトニック結晶 ,  作製 ,  開発