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J-GLOBAL ID：201002250175200125   整理番号：10A0685071

HVM EUVリソグラフィー用第一世代レーザ生成プラズマ光源システム

1st generation Laser-Produced Plasma source system for HVM EUV lithography

著者 (14件)： MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton, Tochigi, JPN) ,  ABE Tamotsu (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  WATANABE Yukio (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  ISHIHARA Takanobu (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  OHTA Takeshi (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  HORI Tsukasa (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  KUROSU Akihiko (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  KOMORI Hiroshi (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  KAKIZAKI Kouji (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  SUMITANI Akira (EUVA/Komatsu, Kanagawa, JPN) ,  WAKABAYASHI Osamu (Gigaphoton, Tochigi, JPN) ,  NAKARAI Hiroaki (Gigaphoton, Tochigi, JPN) ,  FUJIMOTO Junichi (Gigaphoton, Tochigi, JPN) ,  ENDO Akira (Fraunhofer Inst., Jena, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7636  号： Pt.1  ページ： 763608.1-763608.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CO₂レーザ生成スズプラズマEUV光源(CO₂-Sn-LPP)はEUVリソグラフィーの量産化に必要である。本稿では,CO₂-Sn-LPPの工学的試験システムを開発した。本システムはEUVチャンバ,高出力混合CO₂レーザユニット,プリパルスレーザユニット,磁場緩和ユニットと制御ユニットからなる。本システムの特性を評価した。この結果により,以下のことを示した。1)液滴直径は60μmでCO₂レーザ出力は5.6kWであった。2)最大出力は100W,繰返し周波数は100kHz,デューティサイクルは20%であった。3)安定性は±0.26%であった。4)入射したスズイオンは磁場によりスズ捕捉器へ導いた。5)プリパルスプラズマ形成はデブリ生成を抑制した。

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  *プラズマ源 ,  レーザプラズマ ,  *大量生産 ,  炭酸ガスレーザ ,  スズ ,  光源 ,  実験装置 ,  稼働率 ,  安定性
準シソーラス用語： CO₂レーザ ,  *EUVリソグラフィー ,  *EUV光源 ,  チャンバ ,  デューティサイクル ,  プラズマ光源 ,  *レーザ生成プラズマ ,  繰返し周波数 ,  量産

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源,照明器具  (NB12020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： EUVリソグラフィー ,  一世代 ,  レーザ生成プラズマ ,  光源システム