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J-GLOBAL ID：201002250480409719   整理番号：10A1153242

光化学金属-有機堆積を用いて作製した直接パターンBiFeO₃薄膜の相形成と特性に及ぼすSrTiO₃バッファ層の影響

Effect of SrTiO₃ buffer layer on the phase formation and properties of direct-patternable BiFeO₃ thin films fabricated using photochemical metal-organic deposition

著者 (4件)： LEE Hong-sub (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Yonsei Univ.) ,  CHOI Hye-jung (R & D Div., Hynix Semiconductor Inc.) ,  CHUNG Sung-woong (R & D Div., Hynix Semiconductor Inc.) ,  PARK Hyung-ho (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Yonsei Univ.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 118  号： 1383  ページ： 1024-1027 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： F0382A  ISSN： 1882-0743  CODEN： JCSJEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 過剰ビスマスや鉄などの不純物を含まないBiFeO₃の形成は,狭い圧力-温度-化学量論ウィンドウでのみ可能である。光化学金属-有機堆積(PMOD)を用いた直接パターンBiFeO₃膜を通常のエッチングなしで作製した。相形成中の基板の影響を調べるため,ペロブスカイト型構造で格子定数が3.905AのSrTiO₃バッファ層上にBiFeO₃を形成した。本稿では,直接パターンPMOD BiFeO₃薄膜の相形成と電気的性質について報告した。O₂およびN₂雰囲気中,550°C,20minの焼鈍後,SrTiO₃バッファ層はBiFeO₃中のFe過剰相の形成をやや抑制することが分かった。Pt/BiFeO₃(200nm)/SrTiO₃(40nm)/Pt/Si構造の残留分極(Pr)と抗電場(Ec)値はそれぞれ10μC/cm²と300kV/cmであった。ペロブスカイト型BiFeO₃の漏れ電流は他のペロブスカイト型強誘電体としてのPoole-Frenkel放出によって支配されることが分かった。画像を得るため,スピンコートBiFeO₃膜を紫外線中で15min照射し,ヘキサンで洗浄した。BiFeO₃膜の直接パターニングは,反応物質の化学量論を制御したSrTiO₃バッファ層を用いたマイクロパターンシステムの作製に適用できることが判明した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *鉄酸塩 ,  ビスマス化合物 ,  *記憶素子 ,  薄膜成長 ,  パターン形成 ,  光CVD ,  バッファ層 ,  チタン酸ストロンチウム ,  結晶構造 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  格子定数 ,  *電気的性質 ,  雰囲気 ,  酸素 ,  窒素 ,  相組成 ,  焼なまし ,  残留分極 ,  抗電場 ,  漏れ電流 ,  Poole-Frenkel効果 ,  スピンコーティング ,  電子ビームリソグラフィー ,  X線回折 ,  赤外吸収スペクトル ,  電流電圧特性 ,  容量電圧特性 ,  強誘電体 ,  強磁性体
準シソーラス用語： マイクロパターニング ,  直接描画

分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

引用文献 (25件)：

• 1) G. A. Smolenskii and I. Chupis, Sov. Phys. Usp., 25, 475 (1982).
• 2) T. Zhao, A. Scholl, F. Zavaliche, K. Lee, M. Barry, A. Doran, M. P. Cruz, Y. H. Chu, C. Ederer, N. A. Spaldin, R. R. Das, D. M. Kim, S. H. Baek, C. B. Eom and R. Ramesh, Nat. Mater., 5, 823–829 (2006).
• 3) F. Kubel and H. Schimid, Acta Crystallogr., Sect. B: Struct. Sci., 46, 698–702 (1990).
• 4) P. Fischer, M. Polomska, I. Sosnowska and M. Szymanski, J. Phys. C: Solid State Phys., 13, 1931–1940 (1980).
• 5) I. Sosnowska, T. P. Neumaier and E. Steichele, J. Phys., C15, 4835 (1982).

タイトルに関連する用語 (7件)： 光化学 ,  堆積 ,  作製 ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  相形成 ,  バッファ層