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J-GLOBAL ID：201002250862009630   整理番号：10A1102371

炭素負イオン注入によるパターン化シリコーンラバー上での間葉系幹細胞からの骨芽細胞配列

Osteoblast Patterning from Mesenchymal Stem Cells on Silicone Rubber Patterned by Carbon Negative-Ion Implantation

著者 (6件)： SOMMANI P. (Kyoto Univ.) ,  TSUJI H. (Kyoto Univ.) ,  SATO H. (Kyoto Univ.) ,  GOTOH Y. (Kyoto Univ.) ,  ISHIKAWA J. (Chubu Univ.) ,  TAKAOKA G. H. (Kyoto Univ.)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 71st  ページ： ROMBUNNO.16P-ZL-2  発行年： 2010年08月30日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *イオン注入 ,  シリコーンゴム ,  間葉系幹細胞 ,  *骨芽細胞 ,  骨形成 ,  *細胞接着 ,  イオン
準シソーラス用語： 炭素イオン

分類 (1件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 炭素 ,  負イオン ,  注入 ,  パターン化 ,  シリコーンラバー ,  間葉系幹細胞 ,  骨芽細胞