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J-GLOBAL ID：201002250949951447   整理番号：10A0421400

NEXAFSにより解明したシリコン上の共有単一層内の予期せぬC=C結合

Unanticipated C=C Bonds in Covalent Monolayers on Silicon Revealed by NEXAFS

著者 (5件)： LEE Michael V. (National Inst. for Materials Sci., JPN) ,  LEE Jonathan R. I. (Lawrence Livermore National Lab., California) ,  BREHMER Daniel E. (SLAC National Accelerator Lab., California) ,  LINFORD Matthew R. (Brigham Young Univ., Utah) ,  WILLEY Trevor M. (Lawrence Livermore National Lab., California)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 3  ページ： 1512-1515  発行年： 2010年02月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線吸収端微細構造分光法により,シリコン上に1-オクテンから生成したほとんどの基本的な有機共有単一層は,得られた分子の1/5~2/5で二重結合を保っていることを示した。大部分の飽和単一層中で不飽和が通常の規則性を乱し,規則性に依存した界面の性質に影響を与える。熱ヒドロシリル化と化学力学法の2つの方法で生成した単一層に不飽和の存在を確認したことにより,シリコン上に共有単一層を生成するラジカルをベースとした他の方法の再評価を促す。

シソーラス用語： *XANES ,  ケイ素 ,  共有結合 ,  *単一層 ,  *二重結合 ,  *アルケン ,  規則度 ,  ヒドロシリル化 ,  ラジカル
準シソーラス用語： *NEXAFS ,  シリコン ,  規則性

分類 (3件)： 固-固界面  (CB12060M) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  アルケン  (CF03030T)

物質索引 (1件)： 1-オクテン

タイトルに関連する用語 (5件)： NEXAFS ,  シリコン ,  共有 ,  単一層 ,  予期