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J-GLOBAL ID：201002251038532567   整理番号：10A0179849

電子照射による生体抵抗性の調整 開裂可能な基を埋め込んだオリゴエチレングリコール末端アルカンチオール類の自己集合単分子層

Adjustment of the bioresistivity by electron irradiation: self-assembled monolayers of oligo(ethyleneglycol)-terminated alkanethiols with embedded cleavable group

著者 (4件)： KRAKERT Simone (Philipps-Univ. Marburg, Marburg, DEU) ,  BALLAV Nirmalya (Univ. Heidelberg, Heidelberg, DEU) ,  ZHARNIKOV Michael (Univ. Heidelberg, Heidelberg, DEU) ,  TERFORT Andreas (Goethe-Univ. Frankfurt am Main, Frankfurt am Main, DEU)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 12  号： 2  ページ： 507-515  発行年： 2010年01月14日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： OEG(オリゴエチレングリコール)とアルキル鎖間にスルホン基を埋め込んだ,OEG置換アルカンチオラート(OEG_n-SO₂-1-ウンデカンチオール:n=3,6)を合成した。これらのチオール類の,金基板上での自己集合単分子層(SAM)の電子照射による蛋白質忌避性を研究した。このスルホン基による「弱い結合部分」は電子照射により開裂し,SAMの蛋白質忌避性を除去することができる。これらのSAMを用いる,表面上への蛋白質付着を制御するツールを提案した。スルホン基の開裂は電子照射によるOEGの損傷により促進され,この損傷は長いOEG鎖の方が感度が高かった。一方短いOEG鎖の場合,スルホン基の自体の照射感度は著しく高かった。これらの特性を利用して,蛋白質付着特性の調節が可能であった。開裂可能基を持つ/持たないOEG置換アルカンチオラートSAMは,電子ビーム化学リソグラフィーによる蛋白質忌避性パターンの一次マトリックスとして用いることが可能であった。蛍光標識化ウシ血清アルブミンの吸着パターンの例を示した。また更に,電子照射は一次マトリックスの特定部分の欠陥密度を変化させることができる。これによりSAM中に他の分子を導入することが可能となり,このことは特定の蛋白質の受容基を導入することができる。

シソーラス用語： *電子照射 ,  *タンパク質 ,  *忌避作用 ,  *開裂反応 ,  スルホン ,  基 ,  チオール ,  *自己組織系 ,  *単分子層 ,  金 ,  基板 ,  付着 ,  損傷 ,  感度 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  蛍光標識 ,  血清アルブミン ,  *パターン形成

分類 (3件)： 物理化学一般その他  (CB01030T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子照射 ,  生体 ,  抵抗性 ,  開裂 ,  アルカンチオール ,  自己集合単分子層