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J-GLOBAL ID：201002251303467527   整理番号：10A0761773

非局在熱弾性モデルにおけるta-C膜の固有応力と構造のイオンエネルギーと基板温度に対する依存性

Dependence of intrinsic stress and structure of ta-C film on ion energy and substrate temperature in model of the non-local thermoelastic peak

著者 (3件)： KALINICHENKO A.i. (National Sci. Center “Kharkov Inst. of Physics and Technology”, Akademicheskaya Str., 1, 61108, Kharkov, UKR) ,  PEREPELKIN S.s. (National Sci. Center “Kharkov Inst. of Physics and Technology”, Akademicheskaya Str., 1, 61108, Kharkov, UKR) ,  STREL’NITSKIJ V.e. (National Sci. Center “Kharkov Inst. of Physics and Technology”, Akademicheskaya Str., 1, 61108, Kharkov, UKR)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 19  号： 7-9  ページ： 996-998  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面下の非局在熱弾性ピーク(NTP)モデルにおいて,イオンビーム堆積あるいはイオン援用堆積の薄いコーティングに発生する固有圧縮応力の解析的表現を得た。C⁺イオン堆積における非晶質四面体(ta-C)コーティング中の圧縮応力のエネルギー依存性は,基板温度300Kにおける実験データおよび格子間マイグレーションの活性化エネルギーと同様であった。イオンエネルギーと基板温度に依存する炭素のP,T状態図上の位置およびta-Cマトリックス中のC⁺イオンのNTP中の全温度および圧力を得た。sp³結合からsp²結合構造形成への転移が生じる基板温度をイオンエネルギーに依存して計算した。計算結果を実験データと比較した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ガラス状炭素 ,  薄膜 ,  蒸着膜 ,  圧縮応力 ,  内部応力 ,  エネルギー依存性 ,  基板温度 ,  化学結合 ,  四面体 ,  マイグレーション【化学物質】 ,  転位【結晶】

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 弾性モデル ,  ta-C ,  イオンエネルギー ,  基板温度 ,  依存性