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J-GLOBAL ID：201002251920543095   整理番号：10A1082496

自己組織化高分子構造をマスクとして用いたシリコン微細構造の作製と濡れ性パターニング

著者 (9件)： 平井悠司 (東北大 大学院) ,  藪浩 (東北大 多元物質科研) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 多元物質科研) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 WPI材料機構)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 59  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.1Q18  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノ構造 ,  *濡れ ,  パターン形成 ,  自己組織化 ,  疎水性 ,  共重合体 ,  ポリスチレン ,  高分子膜 ,  ポリアクリルアミド ,  ポリビニルアルコール ,  接触角 ,  超疎水性 ,  多孔質膜

分類 (1件)： 無機重合体  (YH07140R)

タイトルに関連する用語 (8件)： 自己組織化 ,  高分子構造 ,  マスク ,  シリコン ,  微細構造 ,  作製 ,  濡れ性 ,  パターニング