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J-GLOBAL ID：201002255045407030   整理番号：10A0731490

32nmリソグラフィ特性の改善

Improving lithographic performance for 32nm

著者 (10件)： BUSCH Jens (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  PARGE Anne (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  SELTMANN Rolf (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  SCHOLTZ Heike (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  SCHULZ Bernd (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  KNAPPE Uwe (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  RUHM Matthias (ASML, Veldhoven, NLD) ,  NOOT Marc (ASML, Veldhoven, NLD) ,  WOISCHKE Dieter (ASML, Veldhoven, NLD) ,  LUEHRMANN Paul (ASML, Veldhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7638  号： Pt.1  ページ： 763805.1-763805.16  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 32nmノードのリソグラフィにはスキャナー性能と安定性が必要であり,生産でそれらを達成するには安定したリソグラフィ装置とプロセスが必要である。本稿はスキャナーのリソグラフィ性能を調べ,安定性を改善する新しい装置制御法を検討してリソグラフィ全体の性能向上を目指す。その方法は特別なモニターウエハを測定し,その結果を新しいアルゴリズムでモデル化してスキャナーに補正項を常時フィードバックする。同じモニターウエハを制御対象の全スキャナーに使用し,補正は層ごとではなく装置に対して行われる。この制御ループをBaseLinerと称している。測定に使用する装置はスキャトロメータである。スキャトロメータ使用によって生産ウエハの焦点特性が改善された。そして,最も重要なことは新しく導入した制御ループがCDと重ね合わせを大きく改善したことである。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  長さ測定 ,  *プロセス制御 ,  長さ ,  重合せ ,  焦点 ,  形状測定 ,  光学的測定 ,  半導体プロセス ,  ループ
準シソーラス用語： クリティカルディメンジョン ,  スキャトロメトリ ,  制御ループ ,  先進的プロセスコントロール ,  露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： リソグラフィ