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J-GLOBAL ID:201002255358510834   整理番号:10A0098194

包装用のSiOx蒸着プラズマにおける粉体生成の化学

Chemistry of Powder Formation in SiOx, Deposition Plasmas for Packaging Applications
著者 (4件):
資料名:
巻: 52nd  ページ: 774-777  発行年: 2009年 
JST資料番号: E0063B  ISSN: 0737-5921  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SiO2状膜のプラズマ促進化学蒸着(PECVD)は食品包装においてPETのような高分子上にバリアーフィルム蒸着に使われる。このプロセスは低温なのでバリアー特性は優れているが,粉体生成のために蒸着速度が遅くなる。本研究で,レーザ減衰分析で補った時間分解現場Fourier転換赤外分光法を応用してプラズマ中のナノ粒子生成を解明した。SiO2の前躯体としてはヘキサメチルジシロキサン(HMDSO),反応性ガスとしては酸素を用いてRFプラズマ反応器中で実験を実施した。プラズマ中でモノマの高反応性フラグメントの重合によって粒子の核形成が誘起されるので,有機ケイ素化合物の化学的特性が重要であった。大量の酸素は大粒子精製の原因となった。
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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