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J-GLOBAL ID：201002255952061063   整理番号：10A0864805

UV硬化技術と市場 EBキュアリングシステムとその用途

著者 (1件)： 武井太郎 (アイ・エレクトロンビーム)
資料名： プラスチックスエージ  (Plastics Age)
巻： 56  号： 9  ページ： 74-79  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： G0951A  ISSN： 0551-0503  CODEN： PUEJDH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高分子架橋反応等に使用される電子線(EB)照射装置,EBキュアリングシステムとその用途について解説した。EB装置には高エネルギー型(>1MV),中エネルギー型(0.3~1MV),低エネルギー型(<0.3MV)があり,UV硬化に使用される低エネルギー型について主に解説した。EB照射技術の特徴は無溶剤塗工が可能で,コーティング剤がそのまま塗膜になり,無臭または低臭気で,省エネルギー等である。EB照射条件の主なパラメータは加速電圧と吸収線量である。実験用EB装置,生産用EB装置,EB加工ラインについて解説した。EBキュアリングシステムの利用例として,建築用化粧フィルム,光学フィルム,包装材料,架橋,グラフト重合などを紹介した。

シソーラス用語： *電子照射 ,  *架橋【高分子】 ,  特性 ,  無溶剤塗料 ,  塗膜 ,  省エネルギー ,  生産設備 ,  実験装置 ,  プラスチックフィルム ,  包装材料 ,  グラフト共重合 ,  利用
準シソーラス用語： キュアリング ,  電子線照射 ,  特徴 ,  用途

分類 (1件)： 橋かけ  (YH04100E)

タイトルに関連する用語 (5件)： UV硬化 ,  市場 ,  EB ,  キュアリング ,  用途