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J-GLOBAL ID:201002257397505824   整理番号:10A0839582

CWレーザ背面照射法(CW-LBI)によるガラスの内部変質(第5報)-様々な金属のガラス内部への導入-

Laser Induced Modification in Glasses by CW Laser Backside Irradiation (CW-LBI)-Implantation of Various Metals into Glass-
著者 (6件):
資料名:
巻: 76  号:ページ: 933-937  発行年: 2010年08月05日 
JST資料番号: F0268B  ISSN: 1348-8716  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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著者らはこれまでにガラス表面に成膜した白金膜にCWレーザ背面照射(CW-LBI)法でレーザ照射し,ガラス内部に直径10μm程度の白金微粒子を導入できることを報告した。本研究ではレーザ背面照射法によりガラス内部に導入できる金属の大きさに対する膜厚の影響について検討し,さらに可能な金属の種類を照射部の温度の点から検討した。これにより得た主な知見を次に示した。1)ホウ珪酸ガラスに成膜した白金膜にレーザ照射することで,白金膜を溶融させガラス内部に球状に導入できること,その大きさは膜厚,レーザパワーにより3μm~50μmの範囲で変化できること,2)SUS304,白金,ニッケルについてはガラス内部に導入できるが,タンタル,スズ,銀,銅は導入できないこと,また融点が2000K程度かつ熱伝導率が100W/m・K以下の性質を有する金属が導入可能であること,3)計算により銀,銅についてはガラスの軟化点,金属の融点まで温度上昇しないため,内部に導入できないこと。
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分類 (2件):
分類
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特殊加工  ,  ガラスの性質・分析・試験 
引用文献 (13件):
  • 1) M. Esashi : Encapsulated Micro Mechanical Sensors, Microsystem Technol., 1, (1994) 2.
  • 2) X. H. Li, T. Abe and M. Esashi : Deep Reactive Ion Etching of Pyrex Glass Using SF6 Plasma, Sensors Actuators A, 87, 3 (2001) 139.
  • 3) C. W. Lin, C. P. Hsu, H. A. Yang, W. C. Wang and W. Fang : Implementation of Silicon-on-glass MEMS Devices with Embedded Through-wafer Silicon Vias Using the Glass Reflow Process for Wafer-level Packaging and 3D Chip Integration, J. Micromech. Microeng., 18, 2 (2008).
  • 4) D. P. Chen, H. Miyoshi, T. Akai and T. Yazawa : Colorless Transparent Fluorescence Material : Sintered Porous Glass Containing Rare-earth and Transition-metal Ions, Appl. Phys. Lett., 86, 23 (2005).
  • 5) B. Pantchev and Z. Nikolov : Characterization of Refractive-Index Profiles in Silver-Sodium Ion-Exchanged Glass Wave-Guides for Homogeneous Refracting Wave-Guide Structures, IEEE J. Quantum Electron., 29, 9 (1993) 2459.
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