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J-GLOBAL ID：201002259307135783   整理番号：10A0632458

UV210高分子上のサブミクロン導波路構造の製作と光学特性の評価

Fabrication and optical characterization of sub-micronic waveguide structures on UV210 polymer

著者 (5件)： DUVAL D (Univ. Rennes 1, Rennes, FRA) ,  LHERMITE H (Univ. Rennes 1, Rennes, FRA) ,  GODET C (Univ. Rennes 1, Rennes, FRA) ,  HUBY N (Univ. Rennes 1, Rennes, FRA) ,  BECHE B (Univ. Rennes 1, Rennes, FRA)
資料名： Journal of Optics  (Journal of Optics)
巻： 12  号： 5  ページ： 055501,1-6  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： D0538C  ISSN： 2040-8978  CODEN： JOOPCA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 深紫外リソグラフィー(LG)を用いて新しい高分子材料にサブ波長の導波路構造を製作し,その特性を調べた。材料は化学増幅フォトレジストUV210膜を使用した。まず,深紫外線照射による材料の屈折率変化を偏光解析法で測定し,その露光線量依存性を調べた。その結果,980nmの波長に対して,露光域と非露光域との間で最大2×10^-2の屈折率コントラストを得ることができた。この結果は光導波路が容易にパターニングできることを示している。次に,深紫外LGを用いて高さ1μm,幅400nmのリブ導波路を製作し,その光損失をカットバック法で測定した。この導波路は単一TE₀₀およびTM₀₀モードが伝搬する。測定した二つのモードの光損失はそれぞれ3.4±0.4dBcm^-1と6.2±0.5dBcm^-1であり,その値は数か月にわたり変化しなかった。得られた結果はUV210が光通信および光センサ用の低価格の光集積素子材料として有望なことを示している。

シソーラス用語： *光導波路 ,  *平面導波路 ,  *化学増幅レジスト ,  *フォトレジスト ,  *光重合 ,  *フォトリソグラフィー ,  紫外線照射 ,  紫外線 ,  高分子薄膜 ,  屈折率 ,  コントラスト ,  近赤外線 ,  パターン形成 ,  伝送損失 ,  経時変化 ,  安定性
準シソーラス用語： リブ導波路 ,  深紫外線

分類 (3件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子 ,  サブ ,  導波路 ,  製作 ,  光学特性 ,  評価