文献

J-GLOBAL ID：201002261759353383   整理番号：10A0253110

マイクロ/ナノ圧電素子に対する厚さを有するPb(Zr_0.52Ti_0.48)O₃薄膜に関する微小応力緩和効果

Microstress relaxation effect of Pb(Zr_0.52Ti_0.48)O₃ films with thicknesses for micro/nanopiezoelectric device

著者 (3件)： LEE Jeong Hoon (Dep. of Electrical Engineering, Kwangwoon Univ., Seoul 139-701, KOR) ,  HWANG Kyo Seon (Nano-Bio Res. Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., Seoul 136-791, KOR) ,  KIM Tae Song (Nano-Bio Res. Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., Seoul 136-791, KOR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 9  ページ： 092904  発行年： 2010年03月01日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で,著者らは,Pb(Zr_0.52Ti_0.48)O₃(PZT)薄膜の微小応力を,Ramanスペクトル,ならびにウエハ曲率法を用いた微小応力を用いて解析した。この応力解析に基づいて,著者らは,残留応力と圧電特性との関係の決定も行った。その結果,応力緩和は表面粗化に起因して起こるので,1μmの厚さが臨界的であることが分かった。同様に,圧電係数の膜厚依存性は1μm付近で飽和値を示し,(111)から(110)への優先配向の変化が始まった。この変化は,圧電応答が優先配向変化を伴う応力緩和と関連があることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 圧電素子 ,  *圧電体 ,  *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  *応力緩和 ,  膜厚 ,  残留応力 ,  特性 ,  溶液成長 ,  優先配向 ,  スピンコーティング ,  Ramanスペクトル ,  X線回折 ,  *誘電体薄膜 ,  ウエハ【IC】 ,  応力解析 ,  係数 ,  結晶方位
準シソーラス用語： 圧電特性 ,  圧電係数

分類 (2件)： 圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 圧電素子 ,  厚さ ,  Pb ,  O3 ,  薄膜 ,  微小 ,  応力緩和