文献

J-GLOBAL ID：201002262488721310   整理番号：10A1124883

耐熱ガラス基板上に作製した垂直磁気記録用FePtAg-Cナノグラニュラー膜

FePtAg-C nanogranular films fabricated on a heat resistant glass substrate for perpendicular magnetic recording

著者 (4件)： PERUMAL A. (Magnetic Materials Center, National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN) ,  ZHANG L. (Magnetic Materials Center, National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN) ,  TAKAHASHI Y. K. (Magnetic Materials Center, National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN) ,  HONO K. (Magnetic Materials Center, National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 108  号： 8  ページ： 083907  発行年： 2010年10月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,Fe-Ta-Cナノ結晶軟磁性下地層(SUL)上のMgO/SiO₂中間層の上に成長した,約5nmの微粒子径と3.3nmの狭い粒度分布を持つ(001)配向FePtAg-Cナノグラニュラー膜について報告した。低温成長したFePtAg-Cナノグラニュラー膜のL1₀規則化,c-軸配向,およびそれによる磁気的性質は,ポストアニール効果によってナノグラニュラー微細構造を大幅に変えることなしに向上した。3.8kOeの大きな負の核形成磁場,100%の角型比,~8kOeの保磁力,および2.13eVの高エネルギー障壁を持つ正方形状垂直ヒステリシスループを二重層媒体で得た。Kerrループの温度依存性測定から,保磁力と核形成磁場は,それぞれ,26Oe/°Cおよび20Oe/°Cの割合で減少することが明らかになった。これらの結果から見て,SUL上の垂直異方性(001)配向FePtAg-Cナノグラニュラー膜は,従来記録方式で超高密度垂直記録を実現する記録媒体として適切であり得るとした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *垂直磁気記録 ,  多層膜 ,  *媒質 ,  *鉄合金 ,  白金含有合金 ,  銀含有合金 ,  炭素 ,  規模 ,  ナノ構造 ,  材料 ,  *薄膜 ,  磁性薄膜 ,  基板 ,  ウエハ【IC】 ,  スパッタリング ,  焼なまし ,  規則化 ,  微細構造 ,  磁気ヒステリシス ,  曲線 ,  保磁力 ,  核形成 ,  粒径 ,  垂直磁気異方性 ,  温度依存性 ,  軟磁性材料 ,  タンタル含有合金 ,  下層 ,  透過型電子顕微鏡 ,  SQUID ,  Kerr効果 ,  密度
準シソーラス用語： Si基板 ,  ガラス基板 ,  *グラニュラー膜 ,  ナノスケール ,  ヒステリシスループ ,  下地層 ,  *記録媒体 ,  高密度 ,  配向膜

分類 (2件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： ガラス基板 ,  作製 ,  垂直磁気記録 ,  グラニュラー膜