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J-GLOBAL ID：201002264630047838   整理番号：10A0426163

位相マスクを用いた多光子多光束干渉による3次元周期構造体の形成

著者 (6件)： 蝦名渉 ,  西島喜明 ,  MIZEIKIS Vygantas ,  上野貢生 ,  西井準治 ,  三澤弘明
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 3  ページ： 851  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我々は,フェムト秒パルスレーザーの多光子多光束干渉により干渉パターンをフォトレジスト内部に転写露光することで3次元周期構造を作製し,この構造が有する優れた光学機能を利用することで,光と分子が強く相互作用できる反応場を創製することを目的として研究を行っている。今回,多光束干渉パターンを形成できる位相マスクを設計・作製し,重合体の3次元周期構造を作製することに成功したので報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *マスク ,  多光子遷移 ,  *光干渉 ,  *フォトレジスト ,  *パターン転写 ,  *露光 ,  *回路パターン形成 ,  *パルスレーザ照射 ,  フェムト秒 ,  *光子-光子相互作用 ,  フォトニックバンドギャップ ,  周期構造 ,  重合 ,  ホログラフィー ,  リソグラフィー ,  *多光子励起 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： *位相マスク ,  *光子結晶

分類 (4件)： 分子と光子の相互作用  (BH06120R) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  ホログラフィーの応用  (BD03074U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 位相 ,  マスク ,  光子 ,  3次元 ,  周期構造体