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J-GLOBAL ID：201002265414591040   整理番号：10A0098087

Cr₂N被覆におけるHIPIMS⁺(高出力インパルスマグネトロンスパッタリングプラス)技術の工業的影響

Industrial Impact of HIPIMS⁺ Technology for Cr₂N Coatings

著者 (4件)： PAPA F. (Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD) ,  TIETEMA R. (Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD) ,  KRUG T. (Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD) ,  CAMPICHE A. (Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 52nd  ページ： 214-218  発行年： 2009年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化二クロム(Cr₂N)は,材料疲労及び滑り磨耗の低減において重要な役割を果すとして,摩擦学的の応用における重要な被覆物である。これは,その靭性,剥離抵抗及び化学的不活性に起因する,装置への応用として強い潜在性を持っている。これらの性質は冷間溶接及び素材材料接着抵抗性のCr₂Nの有用被覆をもたらす。応用は,Cr₂N層で必要とされる物理的性質(応力,硬度,薄膜モルホロジー)を決定する。高出力インパルスマグネトロンスパッタリングプラス(HIPIMS⁺)は,スパッタされた材料のかなりの部分をイオン化する沈着技術である。これは沈着Cr₂N層のための許容範囲と関連して多くの利点を示す。X線回折結果及び機械的性質を含むHIPIMS⁺及び閉鎖場不均衡マグネトロンスパッタリング(UBM)被覆の比較を提示した。また,手法及び摩擦学的応用としてのCr₂被覆を沈着するHIPIMS⁺の利点についても論じた。HIPIMS⁺技術の心臓部は,スパッタリングカソードへ360kW及び1500μsまでのパルスを出力できるプログラム可能の多段階パルス発生装置である。

シソーラス用語： 許容範囲 ,  *クロム化合物 ,  *窒化物 ,  *被覆 ,  出力 ,  *衝撃 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  実用化 ,  疲れ ,  耐摩耗性 ,  *沈着 ,  イオン化 ,  エネルギー密度 ,  蒸着膜 ,  パルス発生器
準シソーラス用語： プロセスウィンドウ ,  工業的実施 ,  *高出力 ,  材料疲労 ,  出力密度 ,  窒化クロム ,  *窒化二クロム

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  気相めっき  (WC08022K) ,  塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高出力 ,  工業