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J-GLOBAL ID：201002268208750890   整理番号：10A0826241

ナノメートル設計Al/SiC周期的多重層: 多重法アプローチによるキャラクタリゼーション

Nanometer-designed Al/SiC periodic multilayers: characterization by a multi-technique approach

著者 (8件)： GALTAYRIES A. (Ecole Nationale Superieure de Chimie de Paris, Paris, FRA) ,  HU M.-H. (Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA) ,  LE GUEN K. (Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA) ,  ANDRE J.-M. (Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA) ,  JONNARD P. (Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA) ,  MELTCHAKOV E. (Univ. de Paris-Sud, Palaiseau, FRA) ,  HECQUET C. (Univ. de Paris-Sud, Palaiseau, FRA) ,  DELMOTTE F. (Univ. de Paris-Sud, Palaiseau, FRA)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 42  号： 6/7  ページ： 653-657  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)領域に対して設計した周期的なnm厚さのAl/SiC多重層をいろいろな補完的な方法を組み合わせて調べた。スタック内の元素の深さ元素/層分布,その化学的性質と光学的性質について調べた。Al上のSiC界面に高融点金属のWやMoの極めて薄い層を加えると,界面のラフネスを大きく減少させ,多重層スタックの構造品質を改良する。より鋭い界面の形成はToF-SIMSで確認した。X線発光分光法(XES)によると,AlとSiC層の間に化学反応はなく,ラフネスが純粋に幾何構造パラメータで化学的パラメータでないことを確認した。

シソーラス用語： X線ルミネセンス ,  X線反射 ,  *多層 ,  *アルミニウム ,  *炭化ケイ素 ,  *ナノ構造 ,  極端紫外線 ,  表面粗さ ,  二次イオン質量分析 ,  X線分光分析 ,  発光分析 ,  *界面
準シソーラス用語： TOF-SIMS ,  X線発光分光法

分類 (1件)： 固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 設計 ,  Al ,  SiC ,  多重層 ,  多重 ,  キャラクタリゼーション