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J-GLOBAL ID：201002268400510020   整理番号：10A0117845

応力誘起薄膜故障のその場観察

In-situ observations of stress-induced thin film failures

著者 (3件)： ZHAO Z.b. (Delphi Res. Labs, 51786 Shelby Parkway, Shelby Twp., MI 48315, USA) ,  HERSHBERGER J. (Laird Technologies, 4707 Detroit Avenue, Cleveland, Ohio, 44102, USA) ,  BILELLO J.c. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Michigan, Ann Arbor, MI 48109-2136, USA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 8  ページ： 2037-2044  発行年： 2010年02月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報では,熱機械的処理下の薄膜の故障モードをその場白色ビームX線トポグラフィーによって観察した。その場実験はスタンフォードシンクロトロン放射研究所のビームライン2-2の実験装置を使って実施した。本研究では,固有残留応力が本質的に異なるという理由で,Si基板上にマグネトロンスパッタした多結晶TaおよびCrN薄膜を選択した。Ta膜は異方的に圧縮し,CrN膜は等方的に引張状態にあった。空気中における類似の加熱-冷却サイクルの下で,二つのタイプの膜ははっきり異なる故障モードを示すことがその場で準実時間で確認された。これらの試料故障を,加熱下の熱安定性の形が異なることに関係する追加の応力発展に重ね合わされた全く異なる成長応力状態に基づいて解釈した。それは,Ta/Si試料では圧縮応力の増加をもたらす酸化物の形成や,CrN/Si試料では引張を強める等方性応力を膜にもたらす相転移などである。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  *多結晶 ,  *タンタル ,  クロム化合物 ,  窒化物 ,  金属薄膜 ,  セラミック膜 ,  *残留応力 ,  圧縮応力 ,  引張応力 ,  *故障モード ,  *X線トポグラフィー ,  その場観察 ,  加工誘起変態 ,  酸化 ,  *加工熱処理 ,  熱応力
準シソーラス用語： Si基板 ,  *窒化クロム

分類 (3件)： 材料試験一般  (HB01000R) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応力 ,  誘起 ,  薄膜 ,  故障 ,  その場観察