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J-GLOBAL ID：201002271084439521   整理番号：10A0902910

2段・間接バーチャル計測アーキテクチャの開発

Developing a Dual-Stage Indirect Virtual Metrology Architecture

著者 (4件)： TSAI Wen-Huang (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  CHENG Fan-Tien (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  WU Wei-Ming (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  LIN Tung-Ho (Chung Shan Inst. Sci. and Technol., Taoyuan, TWN)
資料名： Proceedings. IEEE International Conference on Robotics and Automation  (Proceedings. IEEE International Conference on Robotics and Automation)
巻： 2010 Vol.3  ページ： 2107-2112  発行年： 2010年 
JST資料番号： T0044A  ISSN： 1050-4729  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体と薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ(TFT-LCD)は,ハイテク全般の開発に先導的役割を果している。この産業では,プロセスの安定性確保や歩留まり向上にウエハ/ガラスのオンライン品質モニタリングが必要となる。実際の計測は時間も掛り高価になるため,バーチャル計測(VM)を使って「生産装置から集められたプロセスデータをベースとしたウエハ/ガラスの品質」を推測した。下記(バーチャルカセットの概念,間接VM問題,2段間接VMアーキテクチャなど)を説明した。また,台湾のチメイオプトエレクトロニクス社における第5世代TFT-LCD製造の化学蒸着プロセスを用いた試験結果(推定精度;バーチャルカセットの有/無)を含む。

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  液晶ディスプレイ ,  薄膜トランジスタ ,  ウエハ【IC】 ,  *計測システム ,  *インプロセス測定 ,  *間接測定 ,  スクリーニング
準シソーラス用語： TFT-LCD ,  TFT【トランジスタ】 ,  ガラス基板 ,  仮想スクリーニング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 間接 ,  バーチャル計測 ,  アーキテクチャ ,  開発