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J-GLOBAL ID：201002272058533591   整理番号：10A0076356

未来材料の10年【環境】光触媒技術の10年間のトピックス-快適で持続可能な環境のために

著者 (3件)： 落合剛 (神奈川科学技術アカデミー) ,  中田一弥 (神奈川科学技術アカデミー) ,  藤嶋昭 (神奈川科学技術アカデミー)
資料名： 未来材料  (Expected Materials for the Future)
巻： 10  号： 1  ページ： 28-31  発行年： 2010年01月10日 
JST資料番号： L4328A  ISSN： 1346-0986  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我が国オリジナルの光触媒関連技術について,ここ10年の進展と今後の展望を,いくつかのトピックスを紹介しながら概説する。近年は,環境浄化への関心の高まりと相まって,外装材および浄化機器分野への応用が特に活発になっている。今後は,水浄化や衛生面への応用が課題と考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *光触媒 ,  技術進歩 ,  環境保全 ,  *公害対策 ,  *浄化 ,  外装材料 ,  空気浄化 ,  親水性 ,  浄水 ,  抗微生物作用 ,  *用途開発 ,  酸化 ,  分解反応 ,  酸化チタン ,  紫外線照射
準シソーラス用語： *環境浄化 ,  超親水性 ,  酸化分解

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

引用文献 (15件)：

• A. Fujishima, X. Zhang and D. A. Tryk: Surface Science Reports, 63, 515(2008).
• 藤嶋昭, 村上武利, 西本俊介, 中田一弥, 野村知生:(財) 神奈川科学技術アカデミー光触媒ミュージアム: 絵でみる光触媒ビジネスのしくみ, 日本能率協会マネジメントセンター, 2008.
• A. Fujishima, T. N. Rao and D. A. Tryk: J. Photochemistry and Photobiolag C, 1, 1(2000).
• A. Fujishima and K. Honda: Nature, 238, 37(1972).
• R. Wang, K. Hashimoto, A. Fujishima, M. Chikuni, E. Kojima, A. Kitamura, M. Shirnohigoshi and T. Watanabe: Nature, 388, 431(1997).

タイトルに関連する用語 (3件)： 未来 ,  環境 ,  光触媒