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J-GLOBAL ID：201002273136645748   整理番号：10A0885945

自己組織化ハニカムマスクを用いたバイオミメティック表面を有するシリコン基板の作製

著者 (10件)： 平井悠司 (東北大) ,  仲道裕貴 (東北大) ,  藪浩 (東北大 多元物質科研) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 多元物質科研) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 WPI原子分子材料高等研究機構)
資料名： エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集  (Proceedings of the JIEP Annual Meeting)
巻： 24th  ページ： 206-207  発行年： 2010年03月10日 
JST資料番号： X0498A  ISSN： 1880-4616  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *自己組織化 ,  *バイオテクノロジー ,  材料科学 ,  ハニカム構造 ,  *表面構造 ,  *マスク ,  ケイ素 ,  ドライエッチング ,  *撥水 ,  疎水性 ,  X線光電子分光法 ,  表面分析 ,  超撥水 ,  *構造
準シソーラス用語： バイオミメティック ,  超撥水性 ,  モスアイ構造

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自己組織化 ,  マスク ,  シリコン基板 ,  作製