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J-GLOBAL ID：201002274788693520   整理番号：10A0850091

電子とイオンのマルチビームを用いた投射マスクレス・リソグラフィーとナノパターニング

Projection mask-less lithography and nanopatterning with electron and ion multi-beams

著者 (3件)： KLEIN Christof (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  PLATZGUMMER Elmar (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT) ,  LOESCHNER Hans (IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7545  ページ： 75450Q.1-75450Q.6  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： IMS Nanofabrication社による投射荷電粒子マルチビーム技術について紹介した。22nmおよびそれを超える技術において,電子VSB(可変形状ビーム)ツールでは求められるマスクを作成するのが難しい。また,NIL(ナノインプリントリソグラフィー)のためのマスタースタンプの製造には,Gausssスポットビーム電子ビームツールが必要なソリューションを提供しうるが,スループットに関する要求には適合できない。さらに,ナノパターニングのニーズに対しては,FIB(集束イオンビーム)装置では対応できない。投射荷電粒子マルチビーム技術は,テレセントリック・ブロードビーム(Telecentric Broad Beam)を用いたプログラマブルAPS(開口プレートシステム)への照射に基づいており,ナノメートル寸法のビームを形成できる。本稿では,本技術の概要と応用分野について紹介した。

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *リソグラフィー ,  集束イオンビーム ,  電子ビームリソグラフィー ,  荷電粒子
準シソーラス用語： ナノインプリントリソグラフィー ,  *ナノパターニング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子 ,  イオン ,  マルチビーム ,  投射 ,  マスクレス・リソグラフィー ,  ナノパターニング