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J-GLOBAL ID：201002274870117383   整理番号：10A1081603

固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価

著者 (3件)： 籾山克章 (山形大 大学院理工学研究科) ,  鈴木貴彦 (山形大 工) ,  廣瀬文彦 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 110  号： 202(CPM2010 79-90)  ページ： 47-51  発行年： 2010年09月03日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高効率太陽電池材料として期待されるβ-FeSi₂を大面積製膜で有利な固相反応エピタキシー法を用いて,100nm以上の厚膜の形成を試みた。結晶性の評価法として,反射高速電子線回折(Reflection High Energy Electron Diffraction:RHEED)とX線回折を用いた。本研究ではRHEED像がβ-FeSi₂であることを判定するために,β-FeSi₂用のRHEEDシミュレーション技術を開発した。本研究では,100nm程度のFe膜を室温でSi基板上に蒸着し,基板温度を上昇させながら,表面の結晶構造の変化をRHEEDで観察し,相図としてまとめた。その結果,表面は,基板温度上昇に伴って,Fe結晶,アモルファス,β-FeSi₂,β-FeSi₂消失へと変化することがわかり,XRDやEDSの結果を併せて,拡散機構のモデル化を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *固体内拡散 ,  ケイ化物 ,  *太陽電池 ,  RHEED ,  ウエハ【IC】 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  焼なまし ,  素子構造
準シソーラス用語： EDS【分光分析】 ,  アニール ,  シリコン基板 ,  シリサイド

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

引用文献 (2件)：

• 服部賢. 表面科学. 2008, 29, 2, 120-126
• TANAKA, Masaya. Jps. J. Appl. Phys. 1997, 36, 3620-3624

タイトルに関連する用語 (6件)： 固相拡散 ,  厚膜 ,  鉄 ,  シリサイド ,  試作 ,  評価