文献

J-GLOBAL ID：201002275186170409   整理番号：10A0626861

エタノールクラスターイオンビームとシリコン表面間の相互作用

Interaction between ethanol cluster ion beam and silicon surface

著者 (4件)： RYUTO Hiromichi (Photonics and Electronics Sci. and Engineering Center, Kyoto Univ., Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN) ,  OZAKI Ryosuke (Photonics and Electronics Sci. and Engineering Center, Kyoto Univ., Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN) ,  MUKAI Hiroshi (Photonics and Electronics Sci. and Engineering Center, Kyoto Univ., Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN) ,  TAKAOKA Gikan H. (Photonics and Electronics Sci. and Engineering Center, Kyoto Univ., Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 84  号： 12  ページ： 1419-1422  発行年： 2010年06月25日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エタノールクラスターイオンビームとシリコン表面間の相互作用を調べた。エタノールクラスターイオンビームで照射したシリコン表面のスパッタリング深度は加速電圧とともに増大した。エタノールクラスターイオンビームで照射したシリコン表面上の無秩序原子の数は初期には遅延電圧への小さな依存性を,次いでさらに遅延電圧の増大とともに急激な減少を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオンビーム ,  *ケイ素 ,  半導体 ,  相互作用 ,  *イオン照射 ,  スパッタリング ,  *アモルファス化 ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： *クラスターイオンビーム

分類 (1件)： 半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E)

物質索引 (1件)： エタノール

タイトルに関連する用語 (2件)： シリコン ,  相互作用