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J-GLOBAL ID：201002275445616577   整理番号：10A0710844

発光ダイオードに曝露したノボラックレジストの感度と透過率の関係

Relationship between Sensitivity and Transmittance of Novolac Resist Exposed to Light Emitting Diodes

著者 (7件)： HORIUCHI Toshiyuki (Tokyo Denki Univ.) ,  HORIUCHI Toshiyuki (Tokyo Denki Univ., Tokyo, JPN) ,  FUJII Takuya (Tokyo Denki Univ.) ,  NAKAMURA Ken (Tokyo Denki Univ.) ,  HIRANO Hiroshi (Tokyo Denki Univ.) ,  ISHIKAWA Koichi (Tokyo Denki Univ., Tokyo, JPN) ,  IWASAKI Jun-ya (Tokyo Denki Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 23  号： 3  ページ： 451-456  発行年： 2010年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中心波長が404~470nmの紫色および青色発光ダイオードに対するノボラックポジ型レジストのTHMR iP-3300の感度を,これらの発光ダイオードのマトリックスアレイを用いる新規開発のナンバリング曝露系を使用して研究した。さらに,レジストのスペクトル透過率を測定し,透過率と感度との関係を論議した。感度は,事実上30倍以上で紫色および青色光線に曝すと大きく異なり,レジストは最小で紫色光にわずか3秒曝すだけで感光した。したがって,合理的な曝露時間性能は適切な還元投影レンズの適用で得られると考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ノボラック ,  *フォトレジスト ,  *透過率 ,  *発光ダイオード ,  曝露 ,  紫 ,  青色光 ,  回路パターン形成 ,  *分光感度 ,  発光スペクトル ,  透光性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• M. Endo, M. Sasago, A. Ueno, and N. Nomura, J. Vac. Sci. Technol. B 7(1989)565.
• H. Namatsu, J. Vac. Sci. Technol. B 6(1988)1698.
• S. Rice and K. Jain, IEEE Trans. Electron Devices, 31, 1(1984)1.
• H. Ito, Resist zairyo (Resist materials)(Kyoritsu Shuppan, Tokyo, 2005) p. 14 [in Japanese].
• D. Morita, M. Sano, M. Yamamoto, T. Murayama, S. Nagahama, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys.41(2002) L1434.

タイトルに関連する用語 (4件)： 発光ダイオード ,  曝露 ,  感度 ,  透過率