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J-GLOBAL ID:201002275621899580   整理番号:10A1539417

GaN/AlN量子ドットにおけるバンド内遷移による負光伝導率

Negative photoconductivity due to intraband transitions in GaN/AlN quantum dots
著者 (5件):
資料名:
巻: 108  号: 10  ページ: 104512  発行年: 2010年11月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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GaN/AlN量子ドット(QD)における面内光伝導率(PC)測定は,0.9eVにおけるTM偏光赤外(IR)ピーク,及び2.8eVにおける可視-UV(vis-UV)ピークを示した。エネルギー及び偏光依存性に基づいて,0.9eVは,QD内での偏光S-Pzバンド内遷移に関係していた。IR PCは,温度が上昇するにつれ,正PC(PPC)から負PC(NPC)へ変わり,50から300Kまで指数関数的に増大した。vis-UV放射は,すべての温度においてPPCを示した。vis-UV放射と組み合わせて,IR PCは低温において負であった。これらの観測に基づいて,QD層におけるIR励起キャリアが,AlN障壁における深準位(DL)に結合して,固定され,すなわち,NPCが観測されるというモデルを示唆した。vis-UV放射はそれらをQDに再励起し,結果として,PPCを生じた。低温において,DLへの結合は効果が無くなり,したがって,IR励起はPPCを生じた。このモデルをレート方程式に反映した。これらのレート方程式に基づいたシミュレーションは,実験結果を良く再現した。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  光伝導,光起電力 
タイトルに関連する用語 (5件):
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